Features of TiN film deposition by the vacuum-arc methodстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 28 мая 2015 г.
Местоположение издательства:Road Town, United Kingdom
Первая страница:737
Последняя страница:739
Аннотация:The chemical homogeneity of TiN thin films produced by the sputtering of a titanium target in a nitrogen atmosphere are studied using atomic-force microscopy and the backscattering of helium ions. It is established that TiN films of submicron thickness contain titanium nanoparticles, the number of which increases with decreasing nitrogen pressure.