Low-pressure RF discharge in electronegative gases for plasma processingстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.

Работа с статьей


[1] Low-pressure rf discharge in electronegative gases for plasma processing / V. A. Feoktistov, D. V. Lopaev, K. S. Klopovsky et al. // Journal of Nuclear Materials. — 1993. — Vol. 200, no. 3. — P. 309–314. An RF plasma discharge in oxygen has been investigated both experimentally and theoretically. The excited species in the oxygen plasma were detected by means of spontaneous luminescence spectroscopy. A self-consistent numerical model was developed for these discharges. The model was confirmed by several theoretical and experimental investigations. The spatial distribution over the discharge gap of both charged and neutral plasma components and their fluxes to electrodes have been calculated. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть