Influence of noble gases on the reaction of plasma-chemical decomposition of silicon-organic compounds in the dielectric barrier dischargesстатья

Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 29 мая 2015 г.

Работа с статьей


[1] Sonnenfeld A., Kozlov K. V., Behnke J. F. Influence of noble gases on the reaction of plasma-chemical decomposition of silicon-organic compounds in the dielectric barrier discharges // Proc. 15th Int. Symp. Plasma Chem. — Vol. 5. — Orléans, France, 2001. — P. 1829–1834.

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть