Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Influence of noble gases on the reaction of plasma-chemical decomposition of silicon organic compounds in the dielectric barrier discharge
тезисы доклада
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 29 мая 2015 г.
Авторы:
Kozlov K.V.
,
Sonnenfeld A.
,
Behnke J.F.
,
H-E Wagner
Сборник:
10 Bundesdeutsche Fachtagung Plasmatechnologie
Тезисы
Год издания:
2001
Место издания:
Greifswald, Germany
Первая страница:
80
Последняя страница:
80
Добавил в систему:
Козлов Кирилл Вадимович