Influence of noble gases on the reaction of plasma-chemical decomposition of silicon organic compounds in the dielectric barrier dischargeтезисы доклада

Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 29 мая 2015 г.

Работа с тезисами доклада


[1] Influence of noble gases on the reaction of plasma-chemical decomposition of silicon organic compounds in the dielectric barrier discharge / K. V. Kozlov, A. Sonnenfeld, J. F. Behnke, W. H-E // 10 Bundesdeutsche Fachtagung Plasmatechnologie. — Greifswald, Germany, 2001. — P. 80–80.

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть