Аннотация:Пленки плазмохимического нитрида кремния SiNx, получаемые из газов моносилана SiH4 и аммиака NH3, широко используются в микроэлектронике, микро- и наноэлектромеханических системах. Для многих применений важными характеристиками являются остаточные механические напряжения и состав пленок. Свойства пленок SiNx, в частности механические напряжения и состав, существенно зависят от условий получения: соотношения расходов реагирующих газов, состава газовой смеси, мощности и частоты генератора плазмы, температуры и давления при осаждении. Несмотря на большой объем исследований, данные о зависимости свойств и состава пленок SiNx от условий получения не являются достаточно полными. Изучено влияние отношения расходов реагирующих газов на механические напряжения и состав пленок плазмохимического нитрида кремния SiNx, получаемых из газовой смеси моносилана SiH4 и аммиака NH3 при использовании низкочастотной плазмы. Установлено, что с ростом отношения расходов газов SiH4 к NH3 от 0,016 до 0,25 сжимающие механические напряжения уменьшаются на 31%, стехиометрический коэффициент уменьшается от 1,40 до 1,20, показатель преломления возрастает от 1,91 до 2,08, концентрация связей N-H уменьшается в 7,4 раз, концентрация связей Si-H возрастает в 8,7 раз, а концентрация атомов водорода убывает в 1,5 раза. Результаты можно использовать для контролируемого получения пленок SiNx с такими заданными характеристиками, как остаточные механические напряжения, показатель преломления, стехиометрический коэффициент и концентрация водородсодержащих связей.