|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Excessive number of high asperities for sputtered rough filmsстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 25 августа 2021 г.
- Авторы: Muravyeva T.I., Uvarov I.V., Naumov V.V., Palasantzas G., Svetovoy V.B.
- Журнал: Physical Review B
- Том: 104
- Номер: 3
- Год издания: 2021
- Издательство: American Physical Society
- Местоположение издательства: United States
- Номер статьи: 035415
- DOI: 10.1103/physrevb.104.035415
- Аннотация: The roughness of solids is crucial for interactions between bodies at short separations due to capillary orvan der Waals–Casimir forces and for contact mechanics. Specifically, it is critical for the fabrication andoperation of microelectromechanical systems, for which functional materials are deposited using thin filmcoating technologies. Here, it is demonstrated that the materials deposited by magnetron sputtering or thermallyevaporated on a cold Si substrate reveal a significantly larger number of high asperities than that predicted by thenormal distribution. Such asperities define the distance between the solids in contact that is the key parameterfor many problems. The effect is related to the nonequilibrium deposition conditions and is suppressed if thematerial is deposited on a hot substrate or annealed. The high asperity tails can be described by the extremevalue distribution or in some cases by the exponential distribution.
- Добавил в систему: Муравьева Тамара Ивановна
Прикрепленные файлы
| № | Имя | Описание | Имя файла | Размер | Добавлен |
|---|