Study of spatial distributions of F, H and CF2 radicals in DF CCP discharge in Ar/CF4 and Ar/CHF3 mixturesстатья

Информация о цитировании статьи получена из Web of Science
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 22 апреля 2013 г.

Работа с статьей


[1] Study of spatial distributions of f, h and cf2 radicals in df ccp discharge in ar/cf4 and ar/chf3 mixtures / O. V. Braginsky, A. S. Kovalev, D. V. Lopaev et al. // THIRD INTERNATIONAL WORKSHOP AND SUMMER SCHOOL ON PLASMA PHYSICS 2008 Book Series: Journal of Physics Conference Series. — 2010. — Vol. 207, no. Article Number: 012014. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть