Low damage cryogenic etching of porous organosilicate low-k materials using SF6/O2/SiF4статья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 31 декабря 2013 г.