Место издания:Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физической химии и электрохимии им. А.Н.Фрумкина Российской академии наук (ИФХЭ РАН) г. Москва
Первая страница:14
Последняя страница:14
Аннотация:Тонкие металлические покрытия (от 0.1 до 30 мкм) используются для защиты изделий из металлов от коррозии, для повышения их износостойкости, формирования у них особых электрических, магнитных, оптических, декоративных и т.д. свойств. Среди этих покрытий важное место занимают аморфные покрытия из хрома и металлов группы железа, получаемые электроосаждением. Они близки по своим свойствам к аморфным сплавам, получаемым быстрым охлаждением расплава, которое препятствует формированию равновесной кристаллической структуры сплава. Одним из принципиальных вопросов, связанных с выяснением роли отдельных компонентов в составе покрытий при формировании аморфного состояния, является вопрос о химическом состоянии в них металлоидов (B, P, C, Si и др.). Как показывает практика, металлоиды, по-видимому, необходимы для формирования аморфного состояния и обычно входят в состав таких покрытий. С точки зрения фундаментальной науки большой интерес представляет также вопрос о возможной трансформации химического состояния металлоидов в подобных покрытиях после отжига образцов (перехода сплавов из аморфного в равновесное кристаллическое состояние).Судя по данным, представленным в значительном числе публикаций, многие специалисты считали, что металлоиды (С и Р) в аморфных хромовых покрытиях или Р, В и др. в покрытиях из металлов группы железа, получаемых из соответствующих растворов с добавками металлоид-содержащих соединений, находятся в элементном состоянии. Такой вывод базировался на сопоставлении рентгенограмм исходных образцов и тех же образцов после отжига. Предполагалось, что наблюдаемые «гало» нарентгенограммах исходных покрытий свидетельствовали в пользу присутствия в этихпокрытиях элементного металлоида, а соответствующие фосфиды, карбиды или бориды металлов формировались в результате кристаллизационного отжига образцов (о чем свидетельствовало появление резких пиков на рентгенограммах). На наш взгляд, эти предположения не являются достаточно обоснованными.В докладе, наряду с данными о составе, структуре и кинетике электроосаждения аморфных покрытий, обсуждаются результаты изучения химического состояния металлоидов в указанных покрытиях с помощью нового и перспективного варианта метода рентгеновской эмиссионной спектроскопии: valence-to-core XES. Метод позволяет количественно оценивать содержание в покрытиях атомов металла,свободных и химически связанных с атомами металлоидов. С его помощью уставлено, что при получении хромовых покрытий, а также покрытий на основе металлов и сплавов группы железа из растворов с добавками металлоид-содержащих соединений, на подложках формируются аморфные осадки, содержащие металлы, их соответствующие карбиды, фосфиды или бориды и не содержащие металлоидов в элементном состоянии. Этот вывод следует из того факта, что отжиг не приводит (поданным метода valence-to-core XES) к увеличению содержания карбидов, фосфидов или боридов в осадках.
