Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Gas Phase Pore Stuffing for Damage Mitigation during Plasma Etching
тезисы доклада
Авторы:
Yamaguchi T., Nozawa S., Fujikawa M.,
Marneffe J.F de
,
Chanson R.
, Gavan K.B.,
Rezvanov A.
, Lazzarino Fr
Сборник:
Extended Abstracts of the 2018 International Conference on Solid State Devices and Materials
Тезисы
Год издания:
2018
Издательство:
Japan Soc of Applied Physics
Местоположение издательства:
Japan
DOI:
10.7567/ssdm.2018.ps-3-11
Добавил в систему:
Резванов Аскар Анварович