|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Эволюция профиля Si наноструктур при распылении в аргоновой плазме ВЧИ разрядастатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 1 февраля 2021 г.
- Авторы: Шумилов А.С., Амиров И.И.
- Журнал: Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования
- Номер: 9
- Год издания: 2020
- Издательство: ФГБУ "Издательство "Наука"
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 1
- Последняя страница: 9
- DOI: 10.31857/s1028096020090198
- Добавил в систему: Сычева Анастасия Александровна