|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Особенности воздействия ионов He и Ar низких энергий на нанопористые Si/SiO2 -материалыстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАКДата последнего поиска статьи во внешних источниках: 16 сентября 2020 г.
- Авторы: Сычева А.А., Воронина Е.Н.
- Журнал: Письма в "Журнал технической физики"
- Том: 46
- Номер: 11
- Год издания: 2020
- Издательство: Физико-технический институт им. А.Ф.Иоффе Российской академии наук
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 15
- Последняя страница: 18
- DOI: 10.21883/PJTF.2020.11.49492.18260
- Аннотация: Методом молекулярной динамики выполнено моделирование воздействия ионов He и Ar низких энергий (50-200 eV) на нанопористые материалы на основе Si и SiO2. Полученные результаты подтверждают наблюдаемый экспериментально эффект уплотнения приповерхностных слоев материалов с малыми размерами пор и низкой пористостью, который обусловлен инициированным ионами процессом схлопывания пор. Исследованы различия в воздействии на нанопористые материалы ионов He и Ar и влияние их энергии на интенсивность структурных изменений. Ключевые слова: low-k диэлектрики, нанопористые материалы, молекулярная динамика, схлопывание пор.
- Добавил в систему: Сычева Анастасия Александровна