Kinetics of water molecule adsorption on the porous silicon surfaceстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 28 сентября 2016 г.

Работа с статьей


[1] Kinetics of water molecule adsorption on the porous silicon surface / D. M. Kurmasheva, V. D. Travkin, P. O. Kapralov et al. // Bulletin of the Lebedev Physics Institute. — 2014. — Vol. 41, no. 3. — P. 63–67. The kinetics of water vapor adsorption on the porous silicon surface is studied by the gas relaxometry method. The process multistepping which is reflected in sequential changes in H2O molecule diffusivities into the porous matrix, is found. Phenomenological models describing the experiment are considered. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть