Встраиваемый в технологию процесс CVD-роста УНТ с использованием каталитических тонких пленок Ct–Me–N–Oстатья

Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 29 июля 2020 г.

Работа с статьей


[1] Встраиваемый в технологию процесс cvd-роста УНТ с использованием каталитических тонких пленок ct–me–n–o / Д. Г. Громов, С. В. Булярский, С. В. Дубков и др. // Микроэлектроника. — 2017. — Т. 46, № 2. — С. 83–90. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть