|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Effect of Ion-Beam Processing during RF Magnetron Sputtering on the properties of ZnO Filmsстатья Исследовательская статья Электронная публикация
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 29 января 2020 г.
- Авторы: Krylov P.N., Alalykin A.S., Durman E.A., Zakirova R.M., Fedotova I.V.
- Журнал: Semiconductors
- Том: 53
- Номер: 11
- Год издания: 2019
- Издательство: Springer
- Местоположение издательства: New York
- Первая страница: 1457
- Последняя страница: 1464
- DOI: 10.1134/s1063782619110095
- Аннотация: The effect of ion-beam processing alternating with magnetron sputtering on the properties of zincoxide thin films is investigated. It is shown that ion-beam processing reduces the growth rate, coherent-scattering-region sizes, and the resistivity. The stoichiometric index, band gap, and refractive index increase. The transparency of the films in the weak absorption region remains unchanged.
- Добавил в систему: Алалыкин Александр Сергеевич
Прикрепленные файлы
| № | Имя | Описание | Имя файла | Размер | Добавлен |
|---|---|---|---|---|---|
| 1. | Полный текст | Полный текст | Krylov2019_Article_EffectOfIon-BeamProcessingDuri.pdf | 2,3 МБ | 22 января 2020 [MCR] |