Elastic Scattering of Neutral Fluorine on Si, O, C, and H Atoms in the Range of the Relative Kinetic Energies of 2–200 eV

Palov, A.; Jing, Z.; Baklanov, M.R.; Shuhua, W.

Информация о цитировании статьи получена из Web of Science, Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 28 февраля 2020 г.

Авторы: Alexander Palov, Jing Zhang, Baklanov Mikhail R., Shuhua Wei
Журнал: Technical Physics Letters
Том: 45
Номер: 12
Год издания: 2019
Издательство: Pleiades Publishing, Ltd
Местоположение издательства: Road Town, United Kingdom
Первая страница: 1187
Последняя страница: 1190
DOI: 10.1134/S1063785019120113
Аннотация: Binary interatomic potentials F–F, F–Si, F–O, F–C, and F–H are calculated from the first principles (ab initio) on the basis of the multi-configuration method of self-consistent field (CAS-SCF) with a basic set of atomic wave functions aug-pp-AV6Z and are used to calculate phase shifts and cross sections of elastic scattering of atoms in the range of relative kinetic energies of 2–200 eV. It is expected that the obtained elastic scattering cross sections will be useful for a description of sputtering and etching of porous organosilicate films with ethylene bridges used in modern nanoelectronics.
Добавил в систему: Палов Александр Петрович

	ИСТИНА	Войти в систему Регистрация
	Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных
	Главная Поиск Статистика О проекте Помощь

ИСТИНА

Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных

Elastic Scattering of Neutral Fluorine on Si, O, C, and H Atoms in the Range of the Relative Kinetic Energies of 2–200 eVстатья

Прикрепленные файлы