Влияние теплового отжига на фотоэлектрические свойства легированных бором пленок n-Si:Hстатья

Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 27 сентября 2019 г.

Работа с статьей


[1] Влияние теплового отжига на фотоэлектрические свойства легированных бором пленок n-si:h / И. А. Курова, А. Н. Лупачева, Н. В. Мелешко, Э. В. Ларина // Физика и техника полупроводников. — 1994. — Т. 28, № 5. — С. 1092–1092.

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть