Low Pressure RF Discharge in Electronegative Gases for Plasma Processingтезисы доклада

Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 28 мая 2015 г.

Работа с тезисами доклада


[1] Low pressure rf discharge in electronegative gases for plasma processing / V. A. Feoktistov, D. V. Lopaev, K. S. Klopovsky et al. // IVC-12 and ICSS-8, Book of Abstracts. — The Hague, The Netherlands, 1992. — P. 174.

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть