A new precursor for plasma chemical deposition of a-B/C:H films and boronization of tokamaksстатья

Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 13 ноября 2019 г.

Работа с статьей


[1] A new precursor for plasma chemical deposition of a-b/c:h films and boronization of tokamaks / A. P. Zakharov, A. I. Kanaev, V. M. Sharapov, A. E. Gorodetsky // Proc. of Japan-CIS Workshop on Interactions of Fuel Particles with Fusion Materials, ed. M.Yamawaki , UTNL-R 0293. — University of Tokyo, Japan, 1993. — P. 207–218.

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть