The Mechanism of Low-K SiOCH Film Modification by Oxygen Atomsстатья

Статья опубликована в высокорейтинговом журнале

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.

Работа с статьей


[1] The mechanism of low-k sioch film modification by oxygen atoms / O. V. Braginsky, A. S. Kovalev, D. V. Lopaev et al. // Journal of Applied Physics. — 2010. — Vol. 108, no. 7. — P. 073303. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть