|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Structure of Highly Porous Silicon Dioxide Thin Film: Results of Atomistic Simulationстатья
Статья опубликована в высокорейтинговом журнале
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 27 февраля 2020 г.
- Авторы: Grigoriev F.V., Sulimov V.B., Tikhonravov A.V.
- Журнал: Coatings
- Том: 9
- Год издания: 2019
- Издательство: MDPI
- Местоположение издательства: Basel, Switzerland
- Первая страница: 568
- Последняя страница: 566
- DOI: 10.3390/coatings9090568
- Добавил в систему: Григорьев Федор Васильевич