|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Einige Probleme der Herstellung von Silicidschichten durch Abscheidung von Sputterprodukten: Computersimulation des Sputtervorganges von VSi2-Quellenmaterialстатья
- Авторы: Fritzsch B., Samoylov V.N., Zehe A.
- Журнал: Wissenschaftliche Zeitschrift der Technischen Universität Dresden
- Том: 36
- Номер: 2
- Год издания: 1987
- Первая страница: 83
- Последняя страница: 85
- Аннотация: Некоторые проблемы изготовления силицидных слоев методом осаждения продуктов распыления. Моделирование процесса распыления исходного материала VSi2 на ЭВМ (статья на немецком языке).
- Добавил в систему: Самойлов Владимир Николаевич