Аннотация:Разработана методика уменьшения неровностей поверхности пленок золота до атомарного уровня путем аккуратного отжига свеже-напыленных пленок на горячей плитке при температуре 250°С). Пленки напылялись термически на атомарно-гладкую поверхность слюды. Отжиг золотой пленки производился сразу же после напыления. Исследование атомарно-гладкой поверхности пленки золота показало, что неровность поверхности составляла 0,2 нм на участке пленки размером примерно 50-100 нм. Было установлено, что время от конца процесса напыления до начала процесса отжига, должно быть не более 10 часов, а также процесс самосборки с последующим анализом результатов не должен превышать 2 дня.
Разработан метод закрепления наночастиц золота на подготовленную таким способом пленку золота. Напыленная и отожженная пленка золота покрывалась раствором дитиолов (1,2-этандитиол или 1,4-бутандитиол) с концентрацией 0,05 г/мг, а затем раствором наночастиц (2*10-3 – 2,5*10-5 моль/л). Подобраны оптимальные концентрации наночастиц золота с различными растворителями, температурами и длительностями процессов, которые исключают образование конгломератов и гарантируют равномерное распределение наночастиц золота по поверхности пленки. Отсутствие конгломератов наночастиц подтверждается путем исследования поверхности с помощью сканирующего туннельного микроскопа (СТМ) и растрового электронного микроскопа (РЭМ). Эти исследования демонстрируют равномерное распределение малых (3-13 нм) наночастиц золота на поверхности золота с плотностью около 3 частиц на 1000 нм2.