Hierarchical Manipulation of Block Copolymer Patterns on 3D Topographic Substrates: Beyond Graphoepitaxyстатья

Статья опубликована в высокорейтинговом журнале

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 16 ноября 2017 г.

Работа с статьей


[1] Hierarchical manipulation of block copolymer patterns on 3d topographic substrates: Beyond graphoepitaxy / S. Park, X. Cheng, A. Böker, L. Tsarkova // Advanced Materials. — 2016. — Vol. 28. — P. 6900–6905. Templates of complex nanopatterns in a form of hierarchically sequenced dots and stripes can be generated in block copolymer films on lithography-free 3D topographic substrates. The approach exploits thickness- and swelling-responsive morphological behavior of block copolymers, and demonstrates novel possibilities of topography-guided registration of nanopatterns due to periodic confinement and spontaneous orthogonal flow-fields. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть