Formation of carbonic and silicon dioxide structured films by decomposition of molecules on the surface of ionic crystals under the action of IR femtosecond laser radiationстатья

Статья опубликована в высокорейтинговом журнале

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 28 октября 2016 г.

Работа с статьей


[1] Formation of carbonic and silicon dioxide structured films by decomposition of molecules on the surface of ionic crystals under the action of ir femtosecond laser radiation / V. O. Kompanets, V. B. Laptev, S. V. Pigul'skii et al. // Laser Physics. — 2016. — Vol. 26. — P. 066002. This study relates to the formation of carbon and silicon dioxide films that occurs as a result of the decomposition of organic and silicon-containing molecules on the surface of ionic crystals under IR femtosecond laser radiation of moderate intensity (∼1011 W cm−2) without molecular decomposition in the gas phase. We found that transparent graphite oxide films formed in the case of CO2 molecule decomposition. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть