Understanding the interaction mechanisms between amorphous carbon sacrificial patterning material and H2 plasma to enable area-selective ALD processesтезисы доклада

Работа с тезисами доклада


[1] Understanding the interaction mechanisms between amorphous carbon sacrificial patterning material and h2 plasma to enable area-selective ald processes / I. Zyulkov, E. N. Voronina, B. Chan et al. // Book of Asbtract "Plasma Etch and Strip for Microtechnology workshop (PESM 2019)". — Grenoble, 2019.

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть