ОСОБЕННОСТИ РАЗВИТИЯ МИКРОСТРУКТУРЫ ВАНАДИЯ ПРИ ОБЛУЧЕНИИ ИОНАМИ NI 2+ ЭНЕРГИЕЙ 7,5 МЭВ ПРИ 650 °СстатьяИсследовательская статья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 24 января 2020 г.
Аннотация:В статье приведены результаты исследования развития вакансионной пористости и распухания малолегированного ванадиевого сплава V-0,3%Ti, облученного ионами Ni2+ энергией 7,5 МэВ при 650°С до повреждающей дозы 100 смещ./ат. и ионами Не + энергией 40 кэВ до флюенса 5e20 м-2 при 650°С и дополнительно ионами Ni2+. Показано, что на глубине максимального повреждения структуры ~1,75 мкм при облучении ионами никеля радиационное распухание составляет 0,5%, что соответствует известным данным и свидетельствует о целесообразности использования ускорителя ЭГП-15 в имитационных исследованиях относительной радиационной стойкости реакторных конструкционных материалов на этапе их предварительного отбора. При облучении образца в последовательности Не+ + Ni2+ на глубине, существенно превышающей пробег ионов гелия, формируются газонаполненные поры, распухание в зоне максимального повреждения структуры возрастает до 1,2%. Обнаружено, что имплантируемые ионы никеля после достижения предела растворимости в ванадии образуют кластеры размером 5-20 нм. Рис. 6, табл. 1, список лит. 10 назв.