MODELING OF THE DEPOSITION OF DIAMOND FILMS IN A DC DISCHARGE REACTORстатья

Информация о цитировании статьи получена из Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 29 мая 2015 г.

Работа с статьей


[1] MANKELEVICH Y., RAKHIMOV A., SUETIN N. Modeling of the deposition of diamond films in a dc discharge reactor // Plasma Physics Reports. — 1995. — Vol. 21, no. 10. — P. 872–878.

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть