Оптическая литография без маски (обзор)статья Электронная публикация

Работа с статьей


[1] Белокопытов Г. В., Рыжикова Ю. В. Оптическая литография без маски (обзор) // Труды научной конф.: XII Всероссийской школы- семинара Волновые явления в неоднородных средах. — Секция 8. Электродинамика и электроника. — 2010. — С. 7–10. В обзоре анализируются современные фотолитографические системы без использования фотошаблонов. Приводятся их основные технические характеристики, а также факторы, ограничивающие пространственное разрешение и быстродействие. Выделяются перспективные направления развития.

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть