The first silicon-based cationic clathrate III with high thermal stability: Si172-xPxTey (x=2y, y > 20)статья

Статья опубликована в высокорейтинговом журнале

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.

Работа с статьей

[1] The first silicon-based cationic clathrate iii with high thermal stability: Si172-xpxtey (x=2y, y > 20) / J. V. Zaikina, K. A. Kovnir, F. Haarmann et al. // Chemistry - A European Journal. — 2008. — Vol. 14, no. 18. — P. 5414–5422. A new representative of a very rare clathrate III family, Si130P42Te21, has been synthesized from the elements. It crystallizes in the tetragonal space group P4(2)/mnm (no. 136) with the unit cell parameters a = 19.2632(3) angstrom, c = 10.0706(2) angstrom. Single crystal X-ray diffraction and solid state P-31 NMR revealed a non-random distribution of phosphorus atoms over the framework positions. The crystal structure features a peculiar packing of large polyhedra Te@(Si/P)(n) never observed before for cationic clathrates. Despite the structural complexity, the composition of the novel clathrate Is in accordance with the Zintl rule, which was confirmed by a combination of optical metallography, scanning electron microscopy (SEM) and wavelength dispersive X-ray spectroscopy (WDXS), as well as by diamagnetic and semiconducting behavior of the synthesized phase. Clathrate Si130P42Te21 exhibits the highest reported thermal stability for this class of materials, it decomposes at 1510 K. This opens new perspectives for the creation of clathrate-based materials for high-temperature applications. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть