Growth of a-C:H films in low-temperature plasmaстатья

Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 3 июля 2019 г.

Работа с статьей


[1] Growth of a-c:h films in low-temperature plasma / D. V. Fedoseev, I. G. Varshavskaya, Y. N. Tolmachev, V. L. Bukhovets // Journal of Chemical Vapor Deposition. — 1996. — Vol. 4, no. 1. — P. 199–211.

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть