ИЗУЧЕНИЕ ЛОКАЛИЗАЦИИ НИЗКОМОЛЕКУЛЯРНЫХ СТРЕСС-ИНДУЦИРУЕМЫХ БЕЛКОВ, ЗАЩИЩАЮЩИХ ФОТОСИНТЕТИЧЕСКИЙ АППАРАТ ОТ ФОТОДЕСТРУКЦИИстатья

Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 26 июня 2019 г.