|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Исследование in situ кинетики твердофазной реакции, активированной энергией упругих напряжений при формировании наноразмерной пленочной структуры Cu/As2Se3 / Письма в ЖТФ, Т. 44, № 22, С. 3-10, 2018статья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАКДата последнего поиска статьи во внешних источниках: 11 апреля 2019 г.
- Автор: Когай В.Я.
- Журнал: Письма в "Журнал технической физики"
- Том: 44
- Номер: 22
- Год издания: 2018
- Издательство: Физико-технический институт им. А.Ф.Иоффе Российской академии наук
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 3
- Последняя страница: 10
- DOI: 10.21883/PJTF.2018.22.46915.17450
- Аннотация: Впервые исследована in situ кинетика твердофазной химической реакции, активированная энергией упругих напряжений при формировании нанораз- мерной пленочной структуры Cu/As2Se3. Показано, что время, при котором начинается твердофазная химическая реакция, а также величина электрического напряжения гетерослоя Cu/As2Se3 существенно зависят от толщины пленки As2Se3. При критической толщине пленки As2Se3, равной 110 nm, достигается пороговое значение энергии упругих напряжений. Релаксация этой энергии по зародившимся в пленочной системе новым дефектам-микропорам и микротре- щинам приводит к активации и увеличению скорости твердофазной химической реакции. Представлен механизм действия положительной обратной связи между химической реакцией в твердом теле и упругими напряжениями.
- Добавил в систему: Когай Владимир Ян-Сунович