|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Simulation of the optical coating depositionстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 7 сентября 2018 г.
- Авторы: Fedor Grigoriev, Vladimir Sulimov, Alexander Tikhonravov
- Журнал: Advanced Optical Technologies
- Том: 7
- Номер: 1-2
- Год издания: 2018
- Первая страница: 13
- Последняя страница: 22
- DOI: 10.1515/aot-2017-0079
- Аннотация: A brief review of the mathematical methods of thin-film growth simulation and results of their applications is presented. Both full-atomistic and multi-scale approaches that were used in the studies of thin-film deposition are considered. The results of the structural parameter simulation including density profiles, roughness, porosity, point defect concentration, and others are discussed. The application of the quantum level methods to the simulation of the thin-film electronic and optical properties is considered. Special attention is paid to the simulation of the silicon dioxide thin films.
- Добавил в систему: Григорьев Федор Васильевич