Electrochemical properties of metallocene hydroxo and oxo complexes of Ta(V): [Cp*(CpR)TaOHC1]Cl-+(-), R = H, SiMe3 or (CH2)(3)NC4H4, Cp*(Cp(CH2)(3)NC4H4)TaOCl - Electrochemical deposition of conducting polymer film with incorporated tantalocene complexesстатья

Статья опубликована в высокорейтинговом журнале

Информация о цитировании статьи получена из Web of Science, Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.