|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Влияние температуры и интенсивности освещения на образование метастабильных состояний в a-Si:Hтезисы доклада
- Авторы: Курова И.А., Ормонт Н.Н.
- Сборник: Сборник трудов V Международной конференции "Аморфные и микрокристаллические полупроводники"
- Тезисы
- Год издания: 2006
- Место издания: Издательство Политехнического университета г. Санкт-Петербург
- Первая страница: 49
- Последняя страница: 50
- Аннотация: В работе установлено немонотонные изменения параметров ансамбля медленных фотоиндуцированных метастабильных состояний (ФМС) при изменении температуры в интервале 400-480К и влияние на них интенсивности освещения пленки при образовании ФМС. Это обусловлено влиянием температуры и интенсивности освещения пленки на скорости фотоиндуцированного и термического отжига, а также фотоиндуцированного образования медленных ФМС, включающего термический процесс (трехуровневая модель).
- Добавил в систему: Ормонт Наталия Николаевна