"О природе высокой фоточувствительности слоистых пленок a-Si:H"статья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 4 февраля 2014 г.

Работа с статьей


[1] Курова И. А., Ормонт Н. Н. "О природе высокой фоточувствительности слоистых пленок a-si:h" // Материалы Электронной техники. — 2010. — № 3. — С. 45–48. Установлено, что слоистые пленки a-Si:H,выращенные методом циклического осаждения с послойным отжигом в водородной плазме, имеют высокую фоточувствительность, которая превышает в области комнатных температур более чем на порядок фоточувствительность стандартных нелегированных пленок a-Si:H, выращенных осаждением в плазме ВЧ тлеющего разряда. Большая фоточувствительность определяется малой темновой проводимостью и высокой фотопроводимостью слоистых пленок в области комнатных температур. Показано, что это может быть обусловлено наличием "очувствляющих" уровней, связанных с повышенной концентрацией кислорода на границе слоев и малой концентрацией оборванных связей кремния в глубине слоев с более упорядоченной структурой. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть