|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Deposition of PbTiO3 thin films from thd-complexes by an aerosol source MOCVD methodстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus,
Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 23 декабря 2020 г.
- Авторы: Korsakov I.E., Kaul A.R., Klippe L., Korn J., Krause U., Pulver M., Wahl G.
- Журнал: Microelectronic Engineering
- Том: 29
- Номер: 1-4
- Год издания: 1995
- Издательство: Elsevier BV
- Местоположение издательства: Netherlands
- Первая страница: 205
- Последняя страница: 208
- DOI: 10.1016/0167-9317(95)00146-8
- Аннотация: Evaporation rates of lead, titanium, zirconium and lanthanum thd-precursors and deposition rates of corresponding single oxides were measured by using a microbalance setup. Epitaxial-like PbTiO3 thin films on MgO (100) substrates and heterostructures PbTiO3/In2O3/MgO (100) were deposited by an aerosol source CVD technique.
- Добавил в систему: Корсаков Игорь Евгеньевич