Силовые поля для молекулярно-динамического моделирования процесса напыления пленок диоксида кремниястатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 24 января 2020 г.
Аннотация:Проведено сравнение двух силовых полей, предназначенных для молекулярно-динами-
ческого моделирования процесса напыления тонких пленок диоксида кремния. Проведен
анализ структурных характеристик (плотность, радиальная функция распределения) кластера
стеклообразного диоксида кремния, используемого в качестве подложки, и напыленной пленки.
Показано, что для моделирования процесса напыления наиболее подходит силовое поле DESIL,
в котором взаимодействие Ван-дер-Ваальса описывается потенциалом Леннарда-Джонса.