Mechanism of the interaction between F atoms and SiCF3 groups on the low-κ dielectric surfaceстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 10 августа 2018 г.

Работа с статьей


[1] Voronina E. N., Mankelevich Y. A., Rakhimova T. V. Mechanism of the interaction between f atoms and sicf3 groups on the low-κ dielectric surface // Journal of Surface Investigation: X-ray, Synchrotron and Neutron Techniques. — 2018. — Vol. 12, no. 3. — P. 535–539. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть