Механизм взаимодействия атомов F c SiСF3 группами на поверхности low-k диэлектриковстатья

Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК

Работа с статьей


[1] Воронина Е. Н., Манкелевич Ю. А., Рахимова Т. В. Механизм взаимодействия атомов f c siСf3 группами на поверхности low-k диэлектриков // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. — 2018. — Т. 6. — С. 23–28.

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть