Experimental studies of thorium ion implantation from pulse laser plasma into thin silicon oxide layersстатья

Статья опубликована в высокорейтинговом журнале
Сведения о статье проверены и подтверждены

Информация о цитировании статьи получена из Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 16 мая 2018 г.

Работа с статьей


[1] Experimental studies of thorium ion implantation from pulse laser plasma into thin silicon oxide layers / P. V. Borisyuk, E. V. Chubunova, Y. Y. Lebedinskii et al. // Laser Physics Letters. — 2018. — Vol. 15, no. 5. — P. 056101.

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть