Аннотация:Исследовано химическое распыление различных типов углеродных и графитовых материалов в потоках кислородной плазмы с энергией частиц менее 100 эВ. Для нелегированных материалов зависимость коэффициента химического распыления от структуры выражено слабо. Коэффициент распыления легированных бором материалов снижается по мере степени его легирования. С помощью растрового электронного микроскопа исследован рельеф поверхности ряда углеродных материалов.Chemical sputtering for different types of carbon and graphite materials in flows of oxygen plasma has been investigated. Energy of particles was less 100 eV. For non-alloyed materials dependence of coefficient of chemical sputtering from structure was expressed slightly. Coefficient of sputtering of alloyed with boron materials reduced on measure degree of its doping. Surface relief for number of carbon materials was researched with scanning electron microscope method.