Characterization of Highly Doped Si Through the Excitation of THz Surface Plasmonsстатья

Статья опубликована в высокорейтинговом журнале

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 12 июля 2019 г.

Прикрепленные файлы


Имя Описание Имя файла Размер Добавлен
1. Полный текст 07153578.pdf 836,8 КБ 1 сентября 2015 [ashkurinov]