Литография нанометрового разрешения на основе напыляемого полистироластатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 24 января 2020 г.
Аннотация:Разработан метод изготовления предельно малых металлических наноструктур с использованием коммерчески доступного низкомолекулярного полистирола в качестве негативного резиста для электронной литографии, наносимого методом термического испарения. Метод позволяет формировать структуры с высоким (5÷10нм) пространственным разрешением на поверхности произвольной формы и демонстрирует высокий процент выхода годных образцов. Разработаны технологические процессы и приведены их параметры для изготовления массивов параллельных полосок, точек, сходящихся электродов и электродов с нанозазорами. Продемонстрирована возможность создания наноструктур на острие кантилевера сканирующего зондового микроскопа.
PACS: 85.40.Hp Lithography, masks and pattern transfer
English citation: G. A. Zharik, S. A. Dagesyan, E. S. Soldatov, D. A. Presnov, V. A. Krupenin.
Nanometer scale lithography with evaporated polystyrene.
Moscow University Physics Bulletin 2017. N 6.
http://vmu.phys.msu.ru/abstract/2017/6/17-6-120/