Optical Maskless Lithographyстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 22 ноября 2015 г.

Работа с статьей


[1] Belokopytov G. V., Ryzhikova Y. V. Optical maskless lithography // Russian Microelectronics. — 2011. — Vol. 40, no. 6. — P. 414–427. Abstract—Modern maskless photolithography systems based on using spatial light modulators are analyzed in this review. Principles of construction, examples ofimplementation of systems, as well as factors limiting their spatial resolution are discussed.

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть