CVD-технология производства атомных источников тока на основе 63Niстатья

Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК

Работа с статьей

Прикрепленные файлы


Имя Описание Имя файла Размер Добавлен
1. Полный текст 9474r.pdf 2,8 МБ 5 марта 2018 [Magomedbekov_Eldar]

[1] Cvd-технология производства атомных источников тока на основе 63ni / И. Д. Харитонов, В. А. Мазгунова, В. А. Бабаин и др. // Радиохимия. — 2018. — Т. 60, № 2. — С. 143–147. Изучены возможности CVD-технологии для производства атомных батарей на основе 63Ni формиро- ванием активных слоев 63Ni на полупроводниковых кремниевых подложках. В качестве летучего исход- ного соединения использован тетракис(трифторфосфин)никель, синтезированный из металлического 63Ni и трифторида фосфора. Получены данные о влияние температуры подложки и рабочего давления на характеристики покрытия из 63Ni.

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть