Структурная релаксация стеклообразного GeSe2 при изотермическом отжиге ниже и выше Tg

Александрович, Е.В.; Минаев, В.С.; Тимошенков, С.П.

Авторы: Александрович Е.В., Минаев В.С., Тимошенков С.П.
Журнал: Журнал технической физики
Том: 85
Номер: 4
Год издания: 2015
Издательство: Наука
Местоположение издательства: СПб.
Первая страница: 32
Последняя страница: 36
DOI: 10.1134/S1063784215040039
Аннотация: Методами рамановского рассеяния, рентгеновской дифракции и дифференциально-сканирующей калориметрии в температурном диапазоне 300−800K установлено, что после изотермического отжига порошков стекла GeSe 2 ниже температуры размягчения Tg = 635 ± 2K фрагменты высокотемпературных полиморфных модификаций, не имеющие дальнего порядка (полиморфоиды HTPM), распадаются и трансформируются в полиморфоиды низкотемпературной модификации (LTPM) с экзотермическим эффектом. Высокая концентрация в стекле полиморфоидов LTPM и их стабилизация при отжиге ниже Tg способствуют упорядочению и появлению областей когерентного рассеяния от низкотемпературной α-GeSe 2 (3D-формы). При отжиге выше Tg происходит обратная трансформация полиморфоидов LTPM→HTPM с эндотермическим эффектом,приводящая к доминированию в стеклообразном GeSe 2 полиморфоидов HTPM β-GeSe2 (2D-формы), и их кристаллизация.
Добавил в систему: Александрович Елена Викторовна

	ИСТИНА	Войти в систему Регистрация
	Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных
	Главная Поиск Статистика О проекте Помощь

ИСТИНА

Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных

Структурная релаксация стеклообразного GeSe2 при изотермическом отжиге ниже и выше Tgстатья

Прикрепленные файлы