Исследование способов предотвращения деградации материалов с ультранизкой диэлектрической проницаемостью при производстве СБИС на этапе плазмохимического травленияНИР

Investigation of methods for preventing degradation of low-k materials in ULSI technology during plasmachemical etching

Источник финансирования НИР

грант РФФИ

Этапы НИР

# Сроки Название
1 3 декабря 2018 г.-3 января 2019 г. Исследование способов предотвращения деградации материалов с ультранизкой диэлектрической проницаемостью при производстве СБИС на этапе плазмохимического травления
Результаты этапа:

Прикрепленные к НИР результаты

Для прикрепления результата сначала выберете тип результата (статьи, книги, ...). После чего введите несколько символов в поле поиска прикрепляемого результата, затем выберете один из предложенных и нажмите кнопку "Добавить".