Аннотация:Приведен обзор методов создания макроэлектродов наноэлектронных элементов атомарно-молекулярного масштаба и дано подробное описание процедуры «засветки» фоторезиста при создании макроэлектродов молекулярных транзисторов. В процессе изготовления таких структур проведено исследование влияния времени засветки образца с нанесенным резистом при фиксированной интенсивности источника света на качество электродов с целью найти оптимальное значение этого параметра процесса. В итоге, для образцов с толщиной резиста 200 нм и фиксированной интенсивности источника 25 мВ/см^2, была получена оценка снизу для времени экспонирования: для получения пеобходимой четкости и неразрывности электродов время экспонирования должно превышать 2 минуты 15 секунд.